Liunx系统命令行指令

命令行指令 作用
pwd 查看当前处于什么路径
ls 查看cp所在路径文件夹下文件
cd [路径] 进入你输入的路径
cat 读取文件内容
cp [源文件/目录] [目标位置] 复制文件到另一处
mkdir [新目录名字] 创建新目录

注意表中的[ ]中在输入命令的时候不加[ ]直接加路径

文件解释

输入cat cds.lib后输出的该文件的内容

文件cds.lib其实类似于地图,指引软件找到运行在服务器上的运行所需要的文件,下面运行的Virtuoso软件也是依赖lib运行

打开Virtuoso软件

输入virtuoso &注意一定要小写,打开Virtuoso软件,点击最上一栏tools—Library Manager即可查看当前软件里的所有库

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现在双击图最右侧的layout,即可查看Nmos版图

版图认知

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图中

  • SN N型参杂区
  • PN P型参杂区

右边两个蓝色正方形中间的即是Nmos版

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最绿色正方形为P参杂的与地相接

  • 左边第一个红色S极
  • 第二个蓝色长方形是G端
  • 第三个是D端

所有Mos都做在P-sub上面,Nmos做在N陷里

Virtuoso软件快捷键
快捷键 作用 快捷键 作用
I 打开添加一个元器件界面,之后点击版图可以添加你选择元器件 C 复制图形,再按F3可以选择复制的方式
P 打开添加一个电源,地界面,之后点击版图可以添加你选择源地 L 命名
F 将元器件整体在版图视角居中 Pmos W为440nm
W 开启布线模式
R 用于画各种版图
Q 显示并可以修改图形的四边坐标
O 打孔
A 将图形的边和边对齐
M 移动图形,再按F3可精确控制移动距离

一个结点最多链接三根线

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一切结束后点击左边第三个Check and Save保存设计的版图

PMOS版图

在绘制版图的时候应从内向外绘制,并遵守DRC规则;在以后绘制反相器时,PMOS应靠近VDD,NMOS靠近GND

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Virtuous软件版图对应
版图区域 对应软件层名称
有源区 AA
栅电极 GP
P注入 SP
N注入 SN
N阱 NW
接触孔 CT
金属 M1
DRC规则英文单词解释

在DRC文件中语法会加上以下单词告知某些部件的尺寸

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现在就可以开始绘制一个PMOS

1.绘制有源区:在左边Layers栏选择AA,按R在图中随便绘制一个正方形,再选择绘制的红色正方形按Q即可修改它的属性,在这里Bottom和Top分别是正负0.22,Right和Left暂时不管

2.绘制栅极:再在Layers选择GP,按照步骤1中修改Right和Left分别为正负0.18,长暂时不管

3.修改有源区宽度:符合RAC中AA只能延申出GP0.32,故AA的Right和Left应该为0.32

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4.绘制接触控:孔的最小尺寸是0.22,两个孔的相邻最小间距为0.25,但若孔的个数大于3个时,最小间距为0.28,按O在Via Definition中选择M1_AA,选择两行一列如下图

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在版图中在点击即可画出M1_AA的矩形,选择这矩形按Shift+F即可显示内部实际版图,再按M即可移动,按A可以对齐边,将两个孔对齐

5.绘制P注入区:只需要覆盖有源区,注意与有源区的所有边界都为0.18,按Q调整将AA的边界加上0.18,Right和Left为0.75,Bottom和Top为0.625

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再绘制中间的参杂区Right和Left为0.41,Bottom和Top为0.695

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6.绘制衬底:按O修改参数为一行三列,同过M先把它置于X轴和Y轴对称来方便测量长度,注意AA边界与SN的边界仍然为0.18,再者通过M+F3让上面蓝色SN和下面SP间隔为0.08

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7.绘制N阱:上面边界与蓝色SN平齐,下左右边界间隔都是0.25

把PMOS变为NMOS

1.复制:用C+F3复制在弹出的界面中选择下图的Upside dowm

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再把最外面的N+注入选中后删除,得到一个上下对称的

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2.替换:选择上图下面NMOS的中黄色SP区域,按Q再弹出的界面中将SP drawing换成SN,同理SN区域换成SP

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3.修改宽长比:将复制过来的原本PMOS的宽长比修改成NMOS的如下图修改Bottom和Top

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4.链接成反相器:先将鼠标移动最小距离修改成0.01,点击软件上方栏的Options-Display将下图红色框中修改为0.01

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现在就可以开始链接金属线0

  • 按P将栅极和栅极链接再一起

  • 按P后F3将线宽修改成034,将PMOS右边的下面的金属孔和NOS右边上面的金属孔链接在一起

  • 画出一段金属线作为GND

  • 将PMOS左边上面的孔链接到上面三个孔的最左边,中间孔链接倒上面的GND

  • 按O打一个新通孔,选择M1_GP,如图放置并连线

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  • 按L将Patten改为VDD,Height改为0.3,图层改成M1,放置并关联后按Q修改名字,如图关联四个

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画与或器

  • 将原先的PMOS layout复制一份倒Nand

  • 然后按C选中原先PMOS的右半部分,复制后按A对齐得到

  • 修改P区宽度,Right变为2倍img

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  • 打孔,按O修改成1行5列将新的替换旧的3列并想办法对齐,注意一定要把M1_AA改成M1_SN

  • 复制镜像对称,参考上面几步

  • 重复上面最后几步

  • image-20240925213735755

如何把丢失的库找回来

1.创建一个新的库:在软件的左上角File-New-Library,创建任意一个名字的新库如hxy11

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2.将新创建的库链接到丢失的库:在软件左上角点击Edit-Library Path

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在第一步骤中我们创建的新库名字是hxy11,要把新创建的库链接到丢失的库,要修改下图中红色框中是库指向的路径

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将新创建的库原来的路径/home/student20/huxinyinglayout/hxy11中的hxy11改为我们要链接的库huxinying0923/home/student20/huxinyinglayout/huxinying0923 在点击软件左上角的File-Save即可退出,此时我们就找回了我们的旧库

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检测版图是否符合RAC规则

1.在软件工具栏选择Calibre-nmRAC,先取消弹出来的对话框

2.载入Rules文件:先复制DRC文件到自己的文件夹cp /home/gz/smic.drc /home/student30/jyhlayout复制完成后点击下图的三个...选择刚才复制过来的DRC文件

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在DRC检测完成后会生成一系列文件,我们要新建一个文件夹存储它们,回到命令行中输入mkdir RAC1新建一个文件夹,回来选中它

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3.找到并更改错误:点击DRC RUN之后在弹出的界面中将all show改成unsolve show,任意选中左边下图的错误,再选中右边的数字,点击软件栏上的小太阳图标便可以表示版图中错误部分

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4.修改GP_5中Minimum space between field interconnect poly and AA 0.10

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发现只有0.06而最小需要0.10

1复制.cp /home/gz/smic.lvs /home/student30/jyhlayout之后与上面一切一样

layout和netlist中的要勾上

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根据原理图生成版图

1.生成版图:打开原理图addfull点击左上角Launch-Layout XL,弹出的界面一路选择两个ok

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2.生成MOS结构:在生成的版图界面的最左下角红框部分

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在弹出的界面中如图勾选选项后点击ok,后可以看到生成许多MOS

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大作业二级运算器(模拟电路)

Q1和Q2管子匹配度要求最高,在版图设计中要交错放置,Q4Q5则无要求,Q7可以随意放置,电容不画

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最上面的Q8Q3Q6

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中间要线交叉的十字要跳线

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Q4Q5

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按P调用一个PMOS,如图设置参数

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Gate Connection 将栅极链接在一起

S/D Connection 将源极或者漏极链接在一起

Bodytie Type 打衬底极

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电阻按I选择则Rm1用m1做电阻

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Segments选择电阻金属的条数

1.Rndif用Nmos做电阻

改变Segment Length和Segment的值可以改变电阻的值,要合理的选择它们的值以求让它们尽量符合整体电路图

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